A Física de Plasmas permitiu o desenvolvimento de importantes tecnologias empregadas nos mais diversos setores, em especial na área de Engenharia de Materiais. Através deste minicurso, o Laboratório de Plasmas e Processos do ITA apresentará as principais e mais atuais tecnologias a plasma empregados na produção e processamento de materiais. Foco será dado nas tecnologias de produção de filmes finos a partir de processos assistidos a plasma, incluindo os conceitos e práticas envolvidos na caracterização destes filmes por elipsometria espectrofotométrica. O minicurso será composto de uma aula conceitual e uma aula prática incluindo a visualização de experimentos ao vivo como a ignição de tocha de plasma e a caracterização por sonda de Langmuir de uma descarga luminescente em baixa pressão.
Este minicurso será conduzido pelos seguintes pesquisadores no Laboratório de Plasmas e Processos (LPP) e docentes do Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA):
Prof. Dr. Douglas Leite: Doutor em Ciência e Tecnologia de Materiais pela Universidade Estadual Paulista e Johannes Kepler University em Linz, Áustria (2011). Possui Graduação em Física (2005) e Mestrado em Ciência e Tecnologia de Materiais (2007) pela UNESP. Atualmente é Tecnologista Pleno do Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA), pertencendo aos Corpos Docentes do Departamento de Física e do Programa de Pós-Graduação em Engenharia Aeronáutica e Mecânica (PG-EAM) desta Instituição. Atua nas áreas de Engenharia de Materiais, Tratamentos de Superfícies, Materiais Semicondutores, Filmes Finos, Tecnologia de Plasma, Processos a Plasma, Sensores e Dispositivos Fotovoltaicos.
Prof. Dr. André Pereira: Possui graduação em Física pela UNESP (2005), Mestrado em Ciência e Tecnologia de Materiais – POSMAT/UNESP (2008 – FAPESP) e Doutorado em Ciência e Tecnologia de Materiais – POSMAT/UNESP (2012 – FAPESP). Durante sua formação obteve experiência na preparação de filmes semicondutores, principalmente GaAs, GaN e TiO2 puros e dopados com metais de transição, pela técnica de RF magnetron sputtering e a respectiva caracterização das propriedades ópticas, estruturais, eletrônicas e magnéticas destes filmes. Tem experiência com as técnicas de Difração de Raios X, Transmitância no UV-Vis, FTIR, Espalhamento Raman, SQUID, Perfilometria, Elipsometria, AFM, Microscopia Eletrônica de Varredura e Miscroscopia Eletrônica de Transmissão. Durante o período de Doutorado-Sanduiche realizado na Universidade Jaume I (Espanha), também obteve experiência na realização e interpretação de cálculos teóricos ab initio baseados na teoria do funcional da densidade utilizando o programa CRYSTAL09 e 14 (CAPES-Fundación Carolina). Desenvolveu um projeto de Pós-Doutorado de 2012 a 2014 na Universidad Politécnica de Valencia (Espanha – CNPQ). Durante este período, trabalhou com o estudo, por meio das técnicas de Espalhamento Raman, Difração de Raios X e cálculos teóricos, do comportamento de óxidos do tipo ABO4 e sesquióxidos sob influência de altas pressões. Em seguida, desenvolveu um projeto de Pós-Doutorado de 2014 a 2015 no Instituto Tecnológico de Aeronáutica – ITA (CAPES/ITA) onde participou do projeto de desenvolvimento de sensores de pressão piezoresistivos com matriz de AlN e ZnO dopados com nanopartículas metálicas, para aplicação nos setores aeronáutico e aeroespecial, que estejam sujeitas a condições extremas de temperatura e oxidação. Em outubro de 2015 foi contratado como professor Adjunto A da Universidade Federal da Grande Dourados (UFGD). Neste período, criou um grupo de pesquisa de Materiais Fotônicos e Energia Renovável (MaFER). A principal linha de pesquisa envolve a síntese de nanopartículas de semicondutores óxidos puras e dopadas para aplicação na fotocatálise. De Nov2018 a Out2019 realizou um trabalho de pós-doutoramento (CNPq) no Laboratório de Plasmas e Processos do ITA sob supervisão do Prof. Dr. Argemiro Soares da Silva Sobrinho. Em Dez2020 se efetivou como professor adjunto no departamento de Física do ITA. Atualmente atua como professor permanente no programa de pós-graduação em Física do ITA e de Ciência dos Materiais da UFMS. Orienta quatro alunos de mestrado e co-orienta um aluno de doutorado. Desde Fev/2019 é bolsista produtividade PQ-2 (30719920185). Colabora com o projeto de pesquisa – ABO3 and A2X3 compounds under extreme conditions of pressure and temperature (HIGHPRESMAT) – (Ministerio de Economia Y Competitividad) coordenado pelo Prof. Dr. Francisco Javier Manjón (UPV/Espanha) e outro projeto relacionado a produção de filmes finos e heteroestruturas de GaN pela técnica de sputtering reativo visando aplicação de dispositivos SAW coordenado pelo Prof. Dr. Douglas Leite do ITA (FAPESP – 2014/23571-6). Em toda carreira, participou de 33 artigos em jornais indexados (SCOPUS), 15 nos últimos cinco anos. É importante ressaltar que três trabalhos foram publicados no Physical Review B (fator de impacto 3.836), seis no Journal of Physical Chemistry C (fator de impacto 4.536) e, recentemente, dois no Inorganic Chemistry (fator de impacto 4.85). Os artigos somam 488 citações, resultando em um índice h de 15. Com o objetivo de divulgar o resultado das pesquisas, o proponente participou de 27 conferências (12 internacionais e 15 nacionais).
Prof. Dr. Rodrigo Pessoa: Possui graduação em Física pela Universidade Estadual Paulista Júlio de Mesquita Filho (2003), mestrado (2005) e doutorado (2009) em Ciências na área de Física de Plasmas pelo Instituto Tecnológico de Aeronáutica. Atualmente é professor do Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) e professor colaborador na Universidade Estadual Paulista “Julio de Mesquita Filho” (UNESP) e na Universidade Brasil. Tem experiência na área de Física, com ênfase em Física de Plasmas e Física da Matéria Condensada, e nas áreas de Engenharia Aeroespacial e Engenharia Biomédica, atuando principalmente nos seguintes temas: processos de deposição de filmes finos (physical vapor deposition, chemical vapor deposition, atomic layer deposition) e corrosão de materiais por plasmas (reactive ion etching, inductively coupled plasma, catodo oco), tratamento de superfícies por plasmas (plasma microondas, microplasmas), técnicas de caracterização de materiais, técnicas de diagnóstico do plasma, simulação de plasmas frios, tecnologias assistidas a plasmas para engenharia biomédica e células solares. Tem interesse em novos tipos de reatores a plasmas, materiais e processos para microeletrônica e nanotecnologia, engenharia aeronáutica/aeroespacial, fontes de energia renovável com foco no desenvolvimento de novos materiais, dispositivos micro-eletromecânicos (MEMS) e aplicações de plasma na medicina e agricultura. Nestes temas e em temas correlatos orientou 13 trabalhos de mestrado e 9 de doutorado. Possui 2 patentes, 105 artigos, 23 capítulos de livro publicados e 4 livros editados, mais de 320 trabalhos publicados em anais de conferências nacionais e internacionais. Índice H = 16 (Scopus) e H = 20 (Google Scholar).
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