Sabe-se que a deposição por camadas atômicas (ALD) de óxidos metálicos, em especial da alumina (Al2O3), quando operada em modo térmico (150ºC), tem uso frequente da água deionizada como precursor oxidante do precursor metálico, i.e. o trimetilalumínio (TMA). No entanto, a taxa de crescimento por ciclo (GPC) do filme de Al2O3 para TMA + H2O […]
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João Mílton
Materiais bidimensionais tem se mostrado uma área bastante promissora em Física da Matéria Condensada, apresentando diversas propriedades de interesse. Nesta apresentação veremos como analogias com sistemas óticos podem servir como inspiração para o estudo de diversos fenômenos eletrônicos nesses materiais. Isso ocorre devido à grande pureza desses materiais, o que permite a observação de fenômenos […]